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石墨烯制備系統需要注意哪些?

 更新時間:2022-10-17 點擊量:536
一、產品優勢:
1.控制電路選用模糊PID程控技術,該技術控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。
2.氣路快速連接法蘭結構采用本公司*的知識產權設計,提高操作便捷性。
3.中真空系統具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統采用高壓強,耐沖擊分子泵.
防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統使用壽命。
二、注意點:
CVD石墨烯制備雙溫區滑軌式CVD系統爐管內氣壓不可高于0.02MPa
當爐體溫度高于1000℃時,爐管內不可處于真空狀態,爐管內的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊
石英管的長時間使用溫度<1100℃
對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數,若氣壓表示數大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發生(如爐管破裂,法蘭飛出等)。
石墨烯制備系統(CVD)主要用于合成石墨烯薄膜和各種碳納米材料,有一個水平石英管式爐。一個催化劑襯底(通常是銅鋁箔)放置在爐里,甲烷氣體或乙炔氣體從外部低流量和低壓地注入,在催化劑的襯托上形成石墨烯薄膜。
快速冷卻對于形成高質量的石墨烯薄膜非常重要,快速冷卻可以抑制碳過量的沉積在催化劑金屬箔上 (如銅或鎳箔);系統配備了快速冷卻系統。管式爐向一側滑動30mm到反應爐,加熱的爐可以遠離樣品,從而快速冷卻樣品。通過非常簡單的方式達到快速冷卻的效果。
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