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石墨烯制備系統(CVD)

描述:石墨烯制備系統(CVD)主要用于合成石墨烯薄膜和各種碳納米材料,有一個水平石英管式爐。一個催化劑襯底(通常是銅鋁箔)放置在爐里,甲烷氣體或乙炔氣體從外部低流量和低壓地注入,在催化劑的襯托上形成石墨烯薄膜。

更新時間:2023-09-07
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廠商性質:代理商
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應用領域環保,化工,生物產業,能源,電子

石墨烯制備系統(CVD)主要用于合成石墨烯薄膜和各種碳納米材料,有一個水平石英管式爐。一個催化劑襯底(通常是銅鋁箔)放置在爐里,甲烷氣體或乙炔氣體從外部低流量和低壓地注入,在催化劑的襯托上形成石墨烯薄膜。
快速冷卻對于形成高質量的石墨烯薄膜非常重要,快速冷卻可以抑制碳過量的沉積在催化劑金屬箔上 (如銅或鎳箔);系統配備了快速冷卻系統。管式爐向一側滑動30mm到反應爐,加熱的爐可以遠離樣品,從而快速冷卻樣品。通過非常簡單的方式達到快速冷卻的效果。

石墨烯制備系統(CVD)

主要特點:
1)快速加熱和制冷功能;
2)管式爐滑動裝置,可使得樣品快速加熱和冷卻;
3)特殊設計的測溫傳感器,可直接監測樣品溫度;
4)支持生長其他各種碳納米材料(碳納米管、碳納米線等); 

技術指標:

1)石英管尺寸:OD50×ID46×L1200mm

2)加熱區尺寸:φ50×L260mm

3)大操作溫度:1200 ℃

4)正常使用溫度范圍:400-1100 ℃

5)程序化PID溫度控制

6)三路氣體源MFC控制 (hydrocarbon, H2, Ar)

7)旋轉真空泵,抽速20L/min

8)熱電偶實時監測樣品溫度

9)快速加熱和制冷系統

10)手動管式爐滑動系統,滑動距離300mm

11)設備尺寸:W1400×H1000×D500mm

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