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薄膜生長速率測試儀

描述:薄膜生長速率測試儀,采用無損的激光技術實時原位檢測薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學常量(n&k),可廣泛的應用于金屬有機化學氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統Sputtering和蒸發系統等薄膜沉積過程的實時原位監控。

更新時間:2023-09-07
產品型號:
廠商性質:代理商
詳情介紹
品牌其他品牌產地類別進口
應用領域環保,化工,生物產業,能源,電子

薄膜生長速率測試儀,采用無損的激光技術實時原位檢測薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學常量(n&k),可廣泛的應用于金屬有機化學氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統Sputtering和蒸發系統等薄膜沉積過程的實時原位監控。

薄膜生長速率測試儀

主要特點:

*實時薄膜沉積速率、薄膜厚度和光學常數(n&k)分析,同時標準偏差統計分析;

*自動程序化校準;

*精密的實時反饋系統;

*程序控制,可實時多層薄膜沉積監控和控制;

*多Wafer監控功能;

*Wafer基底旋轉監控和控制功能;

*所有參量原位實時檢測;

*操作裝配簡單便捷;

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