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碳納米管CVD制備系統

描述:碳納米管CVD制備系統用于大量制備納米碳材料,如碳納米管粉、碳納米管薄膜和定向碳納米管制備;采用封閉式管式爐,石英反應管直徑50mm/70mm~110mm*1000mm,基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm;氣源包括氫氣、氮氣、甲烷、酒精等;

更新時間:2023-09-07
產品型號:
廠商性質:代理商
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品牌其他品牌應用領域環保,化工,生物產業,能源,電子

碳納米管CVD制備系統

該設備用于大量制備納米碳材料,如碳納米管粉、碳納米管薄膜和定向碳納米管制備;采用封閉式管式爐,石英反應管直徑50mm/70mm~110mm*1000mm,基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm;氣源包括氫氣、氮氣、甲烷、酒精等;

MPCVD是一種碳納米管化學汽相沉積綜合系統,具備一個水平石英管式爐,該系統可以大量穩定生產垂直對齊的CNT和各種粉末CNT。成熟穩定的工藝保證了制備質量和數量,也可用于三維形狀的CNT制備。乙醇注入裝置配備一個滴定法流量控制系統,氣體輸入端口配備三通道質量流量氣體控制器(惰性氣體,碳氫化合物氣體,氫氣)。

真空排氣系統使得該系統能夠在一個廣泛的氣壓下運行,從大氣到低壓(10 Pa),也可用作為熱處理系統,例如:真空爐、大氣爐、氮化爐。

碳納米管CVD制備系統

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2. ZnO納米帶制備系統; 
3. 碳納米管制備系統:用于高質量碳納米管制備、納米顆?;虮∧ぶ苽?、ZnO納米帶制備等; 
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5. 催化劑薄膜制備系統:可沉積催化劑薄膜在各種材料上,用于高性能碳納米管的指標;

技術特點:
        *成熟的碳納米材料制備工藝和豐富的經驗
        *乙醇和碳氫化合物作為碳源
        *用于SWCNT 合成
        *具備催化劑前體供應功能
        *可以合成較長長度 ( ~500 um)垂直對齊的CNT和粉末狀的CNT
        *具備三通道氣體質量控制器
        *體積小,基座穩定
        *高
溫度:1200度;

 

技術參數:
基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm;
粉末碳納米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等;

 

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